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將存儲芯片容量提升1000倍!三星資助的團隊研究出新方法

2020-07-03 17:03 愛集微

導(dǎo)讀:該團隊的最新發(fā)現(xiàn),將能使芯片制造商利用一種新的物理現(xiàn)象來制造更小的芯片,或者將數(shù)據(jù)存儲容量擴展1000倍。

蔚山國立科學(xué)技術(shù)學(xué)院教授李俊熙 

據(jù)韓國先驅(qū)報(The Korea Herald)報道,韓國技術(shù)信息部當(dāng)?shù)貢r間周四宣布該國的一個研究小組發(fā)現(xiàn)了一種將存儲芯片的存儲容量提高1000倍的方法,同時提高了利用0.5納米工藝技術(shù)的可能性。

蔚山國立科學(xué)技術(shù)學(xué)院(Ulsan National Institute of Science and Technology,UNIST)能源與化學(xué)工程教授李準(zhǔn)熙及其團隊已將這一發(fā)現(xiàn)發(fā)表在國際學(xué)術(shù)期刊《科學(xué)》上,并引起了同行及半導(dǎo)體行業(yè)的關(guān)注。

UNIST團隊由三星科學(xué)技術(shù)基金會資助,該團隊的最新發(fā)現(xiàn),將能使芯片制造商利用一種新的物理現(xiàn)象來制造更小的芯片,或者將數(shù)據(jù)存儲容量擴展1000倍。

據(jù)報道,李準(zhǔn)熙教授帶領(lǐng)的UNIST團隊的研究發(fā)現(xiàn)了一種可以控制半導(dǎo)體材料中的單個原子,并進一步增加微芯片存儲量以及突破芯片域尺寸極限的方法。(注:域是指成千上萬個原子一起移動以存儲二進制數(shù)或信號形式的數(shù)據(jù)的組。由于該領(lǐng)域的特性,很難在保持存儲容量的同時將存儲芯片的制造工藝技術(shù)從當(dāng)前的10nm級進一步縮小。)

UNIST團隊發(fā)現(xiàn),通過將一滴電荷加到一種名為鐵電氧化ha(ferroelectric hafnium oxide,或HfO2)的半導(dǎo)體材料中,就可以控制四個單獨的原子來存儲1位數(shù)據(jù)(1 bit of data)。這就意味著,如果合理,可以實現(xiàn)一個閃存模組中每平方厘米可以存儲500 TB的數(shù)據(jù)量,師當(dāng)前閃存芯片的1,000倍。