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日本的半導(dǎo)體實(shí)力如何?

2020-12-17 09:02 半導(dǎo)體行業(yè)觀察
關(guān)鍵詞:半導(dǎo)體日本芯片

導(dǎo)讀:多年來(lái),日本在發(fā)展功率半導(dǎo)體方面一直不遺余力。

近日,據(jù)日經(jīng)報(bào)道,東芝和富士電機(jī)將合計(jì)投資2000億日元(合19億美元),以提高電動(dòng)汽車的節(jié)能芯片的產(chǎn)量,以適應(yīng)世界各國(guó)政府向電動(dòng)汽車和卡車的急劇轉(zhuǎn)變。

眾所周知,近年來(lái),消費(fèi)電子、新能源車、光伏風(fēng)電等下游領(lǐng)域快速發(fā)展,功率半導(dǎo)體成為全球關(guān)注的重點(diǎn)。數(shù)據(jù)顯示,預(yù)計(jì)功率半導(dǎo)體市場(chǎng)將以每年6%的速度增長(zhǎng)。受此利好影響,全球功率半導(dǎo)體廠商一方面會(huì)通過(guò)加強(qiáng)內(nèi)部研發(fā)擴(kuò)產(chǎn),增強(qiáng)自己的實(shí)力;另一方面,進(jìn)行并購(gòu)也成為廠商查漏補(bǔ)缺的另一個(gè)重要手段。

而日本廠商無(wú)疑是這個(gè)市場(chǎng)的一股重要?jiǎng)萘Α?/p>

耀眼的日本廠商

多年來(lái),日本在發(fā)展功率半導(dǎo)體方面一直不遺余力。據(jù)日本媒體最新報(bào)道,日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)?。∕ETI)正準(zhǔn)備為致力于開(kāi)發(fā)新一代低能耗半導(dǎo)體材料“氧化鎵”的私營(yíng)企業(yè)和大學(xué)提供財(cái)政支持,METI將為明年留出大約2030萬(wàn)美元的資金,預(yù)計(jì)未來(lái)5年的投資額將超過(guò)8560萬(wàn)美元。

對(duì)于技術(shù)的追求以及資本推動(dòng)下,日本在功率半導(dǎo)體領(lǐng)域一直擁有強(qiáng)大的實(shí)力。據(jù)悉,目前全球的功率半導(dǎo)體器件主要由歐洲、美國(guó)、日本三個(gè)國(guó)家和地區(qū)提供,他們憑借先進(jìn)的技術(shù)和生產(chǎn)制造工藝,以及領(lǐng)先的品質(zhì)管理體系,大約占據(jù)了全球60%的市場(chǎng)份額。

日本企業(yè)三菱電機(jī)(Mitsubishi),羅姆(ROHM),東芝(Toshiba),瑞薩電子(Renesas),富士電機(jī)(Fuji Electric),分列2019年的功率半導(dǎo)體市場(chǎng)(離散元件和模組)銷售額排名的前五-九名。

2019年的功率半導(dǎo)體市場(chǎng)(離散元件和模組)上各家廠家的銷售額

近日,根據(jù)相關(guān)報(bào)道指出,日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)省預(yù)期2030年代中期在日本國(guó)內(nèi)停止銷售汽油車新車,只銷售混合動(dòng)力和純電動(dòng)等電動(dòng)車型,到2050年,汽車從制造到處置和回收的整個(gè)生命周期實(shí)現(xiàn)碳中和。

目前,日本政府正計(jì)劃對(duì)有助于節(jié)能的產(chǎn)品(例如蓄電池和功率半導(dǎo)體)實(shí)行優(yōu)惠稅收制度。值得注意的是,這些日廠擴(kuò)產(chǎn)有望緩解中國(guó)整車企業(yè)功率半導(dǎo)體供應(yīng)緊缺的現(xiàn)狀。

在日本政府推行新能源車鼓勵(lì)政策下,日本廠商正在積極擴(kuò)產(chǎn)備戰(zhàn)。

積極備貨的日本廠商

誠(chéng)如前文所言,首先是東芝和富士電機(jī),這兩家廠商正投入巨大資金用于擴(kuò)充產(chǎn)能。

東芝

東芝創(chuàng)立于1875年7月,原名東京芝浦電氣株式會(huì)社,1939年由東京電氣株式會(huì)社和芝浦制作所合并而成,此前,東芝預(yù)計(jì)擴(kuò)大8英寸的生產(chǎn)線,企圖打造一個(gè)具有月產(chǎn)15萬(wàn)枚,以IGBT為核心的業(yè)務(wù)線。提出2021年在分立型半導(dǎo)體元件上的銷售額達(dá)到2000億日元的目標(biāo)。

據(jù)日經(jīng)報(bào)道,東芝將在截至2024年3月的財(cái)政年度中花費(fèi)約800億日元,在其位于日本石川縣的工廠增加生產(chǎn)設(shè)備。該集團(tuán)的晶圓生產(chǎn)能力將從每月150,000片增加到每月200,000片。多余的晶圓將交付給日本汽車制造商以及中國(guó)和其他地區(qū)的汽車制造商。東芝在低壓產(chǎn)品中表現(xiàn)出色,可有效處理300伏或更低的電壓。

這家總部位于東京的公司希望將功率半導(dǎo)體領(lǐng)域的銷售額從目前的約1500億日元增長(zhǎng)30%,達(dá)到2000億日元。它已經(jīng)為電網(wǎng)提供了功率轉(zhuǎn)換器。

富士電機(jī)

此前,富士電機(jī)發(fā)表了2023年的中期計(jì)劃,在中期計(jì)劃中顯示2023年度營(yíng)業(yè)額超過(guò)1兆日元,營(yíng)業(yè)利益800億日元,未來(lái)富士電機(jī)將會(huì)重點(diǎn)投資功率半導(dǎo)體領(lǐng)域,2019年~2023年預(yù)計(jì)每年平均投資達(dá)到400~500億日元。

富士電機(jī)表示,與2019年相比,本財(cái)年日本山梨縣工廠的生產(chǎn)能力將提高30%。該公司計(jì)劃提高馬來(lái)西亞和日本以外其他地區(qū)的工廠的產(chǎn)能,以使工人能夠?qū)⒅瞥善窂娜毡局圃斓牧慵刑蕹?/p>

富士電機(jī)是開(kāi)發(fā)用于汽車的功率半導(dǎo)體的先驅(qū),其零部件已被日本和其他汽車制造商使用。該公司的目標(biāo)是到2023財(cái)年使汽車占功率半導(dǎo)體銷售額的一半,高于2019財(cái)年的35%。

事實(shí)上除了這兩家,還有廠商也在積極提升產(chǎn)能。

三菱電機(jī)

在如此熱潮下,多年來(lái)“清心寡欲”的三菱電機(jī)也心動(dòng)了。三菱電機(jī)是功率半導(dǎo)體類型IGBT模塊的第二大制造商。近年來(lái),三菱電機(jī)的投資有減少的跡象。具體來(lái)說(shuō),2013年度,三菱電機(jī)投資了360億日元,2014年度以后,每年保持在100~165億日元的投資水平。但是值得注意的是,2018年度三菱電機(jī)果斷投資552億日元,轉(zhuǎn)為積極態(tài)度。其背景是該公司的SiC功率半導(dǎo)體開(kāi)發(fā)完成。

走到2020年,近日,路透社報(bào)道指出,三菱電機(jī)將投資約200億日元(約合1.87億美元)向夏普公司購(gòu)買兩座閑置的芯片工廠,并啟動(dòng)生產(chǎn)線以滿足對(duì)電動(dòng)汽車所用電源管理芯片不斷增長(zhǎng)的需求。三菱是豐田汽車公司此類芯片的主要供應(yīng)商,新工廠定于明年11月開(kāi)始運(yùn)營(yíng),將為電源管理芯片加工晶圓。與2019財(cái)年相比,2022財(cái)年的總生產(chǎn)能力將翻一番。

除了這些正在努力增加產(chǎn)能的廠商,還有一些廠商正在增加對(duì)功率半導(dǎo)體其他方面的投資。

羅姆

羅姆可以說(shuō)完全是以SiC為主要武器,該公司在2016年度投資421億日元,2017年度投資559億日元,2018年度投資780億日元。在福岡縣筑后修建新工廠,在宮崎工廠建設(shè)新導(dǎo)入新產(chǎn)線。其目標(biāo)是,2021年達(dá)到現(xiàn)有生產(chǎn)能力的3倍,月產(chǎn)12000枚(按照6英寸換算)。

羅姆內(nèi)部,其實(shí)已經(jīng)有人提出在SiC領(lǐng)域,超過(guò)Wolfspeed成為世界第一的口號(hào)。ROHM在未來(lái)三年預(yù)計(jì)投資2500億日元,從瑞薩手中買來(lái)的滋賀縣工廠也將投入8英寸產(chǎn)線。

瞄準(zhǔn)氮化鎵

除了積極擴(kuò)充產(chǎn)能,事實(shí)上,深耕于功率半導(dǎo)體的日本廠商已經(jīng)看到了更遠(yuǎn)的未來(lái)——氧化鎵。資料顯示,氧化鎵(Ga 2 O 3 )是一種新興的超寬帶隙(UWBG)半導(dǎo)體,擁有4.8eV的超大帶隙。

作為對(duì)比,SiC和GaN的帶隙為3.3eV,而硅則僅有1.1eV,那就讓這種新材料擁有更高的熱穩(wěn)定性、更高的電壓、再加上其能被廣泛采用的天然襯底,讓開(kāi)發(fā)者可以輕易基于此開(kāi)發(fā)出小型化,高效的大功率晶體管。與此同時(shí),根據(jù)相關(guān)統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)顯示,Ga 2 O 3 的損耗理論上是硅的1/3,000、SiC的1/6、GaN的1/3。擁有如此多的優(yōu)勢(shì),氧化鎵被看作一個(gè)比氮化鎵擁有更廣闊前景的技術(shù)。

據(jù)市場(chǎng)調(diào)查公司--富士經(jīng)濟(jì)于2019年6月5日公布的Wide Gap 功率半導(dǎo)體元件的全球市場(chǎng)預(yù)測(cè)來(lái)看,2030年氧化鎵功率元件的市場(chǎng)規(guī)模將會(huì)達(dá)到1,542億日元(約人民幣92.76億元),這個(gè)市場(chǎng)規(guī)模要比氮化鎵功率元件的規(guī)模(1,085億日元,約人民幣65.1億元)還要大!具體數(shù)字雖然沒(méi)有公布,從下圖市場(chǎng)預(yù)測(cè)圖表中,可以看出在2050年時(shí)間點(diǎn),氧化鎵超過(guò)氮化鎵。

在氧化鎵方面,日本在元件、基板等方面的研發(fā)全球領(lǐng)先。但據(jù)了解,研究氧化鎵功率元件、并進(jìn)行開(kāi)發(fā)的并不是現(xiàn)在的大型、中型功率半導(dǎo)體企業(yè)。也就是說(shuō)并不是我們所熟悉的三菱電機(jī)、富士電機(jī)、羅姆等企業(yè)。而是一些小企業(yè)。

資料顯示,日本的功率元件方向的氧化鎵研發(fā)始于以下三位:國(guó)立研究開(kāi)發(fā)法人--信息通信研究機(jī)構(gòu)(NICT)的東脅正高(Masataka Higashiwaki)先生、京都大學(xué)的藤田靜雄(Shizuo Fujita)教授、田村(Tamura)制作所的倉(cāng)又朗人先生。

NICT的東脅先生于2010年3月結(jié)束在美國(guó)大學(xué)的赴任并回日本,以氧化鎵功率元件作為新的研發(fā)主題并進(jìn)行構(gòu)想。京都大學(xué)的藤田教授于2008年發(fā)布了氧化鎵深紫外線檢測(cè)和Schottky Barrier Junction、藍(lán)寶石(Sapphire)晶圓上的晶膜生長(zhǎng)(Epitaxial Growth)等研發(fā)成果后,又通過(guò)利用獨(dú)自研發(fā)的薄膜生產(chǎn)技術(shù)(Mist CVD法)致力于研發(fā)功率元件。倉(cāng)又先生在田村(Tamura)制作所負(fù)責(zé)研發(fā)LED方向的氧化鎵單結(jié)晶晶圓,并考慮應(yīng)用到功率半導(dǎo)體方向。

三人的接觸與新能源·產(chǎn)業(yè)技術(shù)綜合開(kāi)發(fā)機(jī)構(gòu)(NEDO)于2011年度提出的“節(jié)能革新技術(shù)開(kāi)發(fā)事業(yè)—挑戰(zhàn)研發(fā)(事前研發(fā)一體型)、超耐高壓氧化鎵功率元件的研發(fā)”這一委托研發(fā)事業(yè)有一定關(guān)聯(lián),接受委托的是NICT、京都大學(xué)、田村制作所等??梢哉f(shuō),由此開(kāi)啟了功率元件的正式研發(fā)。

后來(lái),京都大學(xué)成立了風(fēng)險(xiǎn)投資企業(yè)“FLOSFIA”,NICT和田村制作所合作成立了風(fēng)險(xiǎn)投資企業(yè)“Novel CrystalTechnology”?,F(xiàn)在,兩家公司都是日本氧化鎵研發(fā)的中堅(jiān)企業(yè)。

FLOSFIA成立于2011年3月,不同于世界其他地區(qū)對(duì)GaN或SiC外延生長(zhǎng)的方法研究,F(xiàn)LOSFIA的研究人員開(kāi)發(fā)了一種新型的制備方法,它是將氧化鎵層沉積于藍(lán)寶石襯底上來(lái)制備功率器件。這主要依賴于其一項(xiàng)名為“Mist Epitaxy”(噴霧干燥法)的化學(xué)氣相沉積工藝。

Novel Crystal Technology(以下簡(jiǎn)稱NCT)則成立于2015年,公司所采用的方案是基于HVPE生長(zhǎng)的Ga 2 O 3 平面外延芯片,他們的目標(biāo)是加快超低損耗,低成本β-Ga 2 O 3 功率器件的產(chǎn)品開(kāi)發(fā)。開(kāi)發(fā)出β-Ga 2 O 3 功率器件。

現(xiàn)在參加研發(fā)的日本企業(yè)持續(xù)增加,且正在呈現(xiàn)出“All Japan”的景象。參與開(kāi)發(fā)下一代半導(dǎo)體“氧化鎵(Ga 2 O 3 )”的功率器件的機(jī)構(gòu)數(shù)量正在迅速增加。大學(xué),公司和公共研究機(jī)構(gòu)陸續(xù)參與了氧化鎵(Ga 2 O 3 )的研究。此外,對(duì)開(kāi)發(fā)企業(yè)的投資正在陸續(xù)發(fā)生。

電裝作為一家提供汽車技術(shù)、系統(tǒng)及零部件的供應(yīng)商,也在積極布局Ga 2 O 3 的研發(fā)。2018年1月,電裝與FLOSFIA(上文提到)宣布合作,投資和開(kāi)發(fā)新一代功率半導(dǎo)體器件,預(yù)計(jì)將減少和降低用于電動(dòng)汽車逆變器的能耗、成本、尺寸和重量。

2019年7月,電裝與豐田聯(lián)合宣布成立一個(gè)新的合資企業(yè)。新公司計(jì)劃于2020年4月成立,主要研發(fā)下一代車載半導(dǎo)體技術(shù)。他們將目光投向了能夠挑戰(zhàn)SiC(碳化硅)和GaN(氮化鎵)的功率半導(dǎo)體氧化鎵、金剛石。但直到目前為止,并沒(méi)有關(guān)于新公司的新進(jìn)展。

美國(guó)在這方面也在發(fā)力。據(jù)外媒報(bào)道,今年6月,美國(guó)紐約州立大學(xué)布法羅分校(the University at Buffalo)正在研發(fā)一款基于氧化鎵的晶體管,能夠承受8000V以上的電壓,而且只有一張紙那么薄,將用于制造更小、更高效的電子系統(tǒng),用在電動(dòng)汽車、機(jī)車和飛機(jī)上。

此外,美國(guó)佛羅里達(dá)大學(xué)、美國(guó)海軍研究實(shí)驗(yàn)室和韓國(guó)大學(xué)的研究人員也在研究氧化鎵MOSFET。佛羅里達(dá)大學(xué)材料科學(xué)與工程教授Stephen Pearton表示,它們看好氧化鎵作為MOSFET的發(fā)展?jié)摿Α?/p>

而在中國(guó),盡管起步較晚,但對(duì)于氧化鎵的研究也同樣不斷推進(jìn)狀態(tài)中。據(jù)國(guó)內(nèi)媒體報(bào)道,在去年舉行的全國(guó)科技活動(dòng)周上,北京鎵族科技公司公開(kāi)展示了其研發(fā)的氧化鎵晶胚、外延片以及基日盲紫外線探測(cè)陣列器件。

此外,中國(guó)電科46所采用導(dǎo)模法成功已制備出高質(zhì)量的4英寸氧化鎵單晶,其寬度接近100mm,總長(zhǎng)度達(dá)到250mm,可加工出4英寸晶圓、3英寸晶圓和2英寸晶圓。經(jīng)測(cè)試,晶體具有很好的結(jié)晶質(zhì)量,將為國(guó)內(nèi)相關(guān)器件的研制提供有力支撐。

不過(guò)日本方面表示,鑒于其在Ga 2 O 3 領(lǐng)域的領(lǐng)先性,其他廠商暫時(shí)不能構(gòu)成威脅。

說(shuō)在最后

日本半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展了幾十年,大大小小的公司著實(shí)不少。可是猛然地說(shuō)起,似乎也說(shuō)不出來(lái)幾家。加上近幾年作為代表日本半導(dǎo)體行業(yè)的“內(nèi)存”行業(yè)呈現(xiàn)斷崖式下跌。特別是DRAM廠家,1980年代日本傲視全球,2000年如斷了線的風(fēng)箏。現(xiàn)在能夠想到日本半導(dǎo)體的大廠家,也只有Kioxia(以前的東芝公司)了 。

但日本在半導(dǎo)體材料以及設(shè)備上依然具有很大的優(yōu)勢(shì)。如在硅片方面,日本的幾家公司名列前茅,各種用在半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)的氣體和化合物方面,日本也不遑多讓。而在功率半導(dǎo)體方面,也是如此,日本公司不僅花大手筆投資增產(chǎn)現(xiàn)有技術(shù)產(chǎn)品,也在努力布局下一代功率半導(dǎo)體材料。

日本的半導(dǎo)體實(shí)力,不容小覷。