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武漢:到 2025 年,芯片產(chǎn)業(yè)產(chǎn)值超過 1200 億元

2022-01-19 13:56 IT之家

導讀:產(chǎn)業(yè)規(guī)模方面,到 2025 年,芯片產(chǎn)業(yè)產(chǎn)值超過 1200 億元,半導體顯示產(chǎn)業(yè)產(chǎn)值超過 1000 億元,第三代半導體產(chǎn)業(yè)初具規(guī)模。

據(jù)武漢市人民政府網(wǎng)站,武漢市人民政府辦公廳本月發(fā)布了《關于促進半導體產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展的意見》(以下簡稱《意見》)。

據(jù)了解,《意見》提出,到 2025 年,武漢全市半導體產(chǎn)業(yè)能級明顯提升,產(chǎn)業(yè)結構更加合理,設備、材料、封測配套水平對關鍵領域形成有力支撐。

產(chǎn)業(yè)規(guī)模方面,到 2025 年,芯片產(chǎn)業(yè)產(chǎn)值超過 1200 億元,半導體顯示產(chǎn)業(yè)產(chǎn)值超過 1000 億元,第三代半導體產(chǎn)業(yè)初具規(guī)模。

武漢:到 2025 年,芯片產(chǎn)業(yè)產(chǎn)值超過 1200 億元

技術水平方面,到 2025 年,發(fā)明專利年均增速超過 15%,創(chuàng)建 3—5 個國家級創(chuàng)新平臺,牽頭制定 2—4 項行業(yè)標準,突破一批關鍵核心技術,實現(xiàn)一批關鍵技術轉(zhuǎn)化和應用。

市場主體方面,到 2025 年,培育形成 5 家銷售收入超過 100 億元的芯片企業(yè)、5 家銷售收入超過 100 億元的半導體顯示企業(yè)、5 家銷售收入超過 10 億元的半導體設備與材料企業(yè),半導體企業(yè)總數(shù)超過 500 家,上市企業(yè)新增 3—5 家。

《意見》提出的重點任務和產(chǎn)業(yè)布局如下:

重點任務

(一)瞄準薄弱環(huán)節(jié)補鏈

1.增強集成電路設備、材料和封測配套能力。在設備環(huán)節(jié),聚焦三維集成特色工藝,研發(fā)刻蝕、沉積和封裝設備,引入化學機械研磨(CMP)機、離子注入機等國產(chǎn)設備生產(chǎn)項目;在材料環(huán)節(jié),圍繞先進存儲器工藝,開發(fā)拋光墊、光刻膠、電子化學品和鍵合材料,布局化學氣相沉積材料、濺射靶材、掩膜版、大硅片等材料項目;在封測環(huán)節(jié),引進和培育國內(nèi)外封裝測試領軍企業(yè),突破先進存儲器封裝工藝,推進多芯片模塊、芯片級封裝、系統(tǒng)級封裝等先進封裝技術產(chǎn)業(yè)化。

2.加快半導體顯示設備和材料國產(chǎn)化替代。在設備環(huán)節(jié),聚焦有機發(fā)光二極管(OLED)中小尺寸面板工藝,研發(fā)光學檢測、模組自動化設備,引入顯示面板噴印、刻蝕機、薄膜制備等國產(chǎn)設備生產(chǎn)項目;在材料環(huán)節(jié),支持液晶玻璃基板生產(chǎn)項目建設,加快 OLED 發(fā)光材料、柔性基板材料的研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化,引入濾光片、偏光片、靶材等國產(chǎn)材料生產(chǎn)項目。

3.布局第三代半導體襯底及外延制備。在設備環(huán)節(jié),支持物理氣相傳輸法(PVT)設備、金屬有機化合物氣相沉積(MOCVD)、分子束外延(MBE)等工藝設備的研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化;在材料環(huán)節(jié),引進碳化硅(SiC)襯底、SiC 外延、氮化鎵(GaN)襯底生產(chǎn)線,布局 GaN 外延晶片產(chǎn)線。

(二)立足現(xiàn)有基礎強鏈

1.打造存儲、光電芯片產(chǎn)業(yè)高地。在存儲芯片領域,重點引入控制器芯片和模組開發(fā)等產(chǎn)業(yè)鏈配套企業(yè),研發(fā)超高層數(shù)三維閃存芯片、40 納米以下代碼型閃存、動態(tài)隨機存取存儲器、三維相變存儲器、存算一體芯片等先進存儲芯片;在光電芯片領域,支持 25G 以上光收發(fā)芯片、50G 以上相干光通信芯片的研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化,布局硅基光通信芯片、高端光傳感芯片、大功率激光器芯片等高端光電芯片制造項目。

2.建設國內(nèi)重要半導體顯示產(chǎn)業(yè)基地。在顯示面板領域,引進大尺寸 OLED、量子點顯示、亞毫米發(fā)光二極管(MiniLED)顯示等面板生產(chǎn)項目,布局微米級發(fā)光二極管(MicroLED)顯示、激光顯示、8K 超高清、3D 顯示等未來顯示技術研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化;在顯示模組領域,支持全面屏、柔性屏模組的研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化,加快開發(fā)高端面板屏下傳感元件及模組,引入光學鏡頭、背光模組等生產(chǎn)項目,逐步提升對中高端面板的產(chǎn)業(yè)配套能力。

(三)聚焦熱點領域延鏈

1.通信射頻芯片。支持 5G 絕緣襯底上硅(SOI)架構射頻芯片、射頻電子設計自動化(EDA)軟件研發(fā);面向 5G 基站、核心網(wǎng)、接入網(wǎng)等基礎設施市場,重點發(fā)展基帶芯片、通信電芯片、濾波器等關鍵芯片。

2.通用邏輯芯片。加快圖形處理器(GPU)、顯控芯片的開發(fā)及應用,提升知識產(chǎn)權(IP)核對中央處理器(CPU)、人工智能芯片等邏輯芯片的設計支撐能力,布局信創(chuàng)領域處理器項目。

3.北斗導航芯片。支持研發(fā)北斗三號系統(tǒng)的新一代導航芯片、28 納米高精度消費類北斗導航定位芯片、新一代多模多頻高精度基帶系統(tǒng)級芯片;面向交通、物流、農(nóng)業(yè)、城市管理等領域開發(fā)通導一體化北斗芯片,拓展北斗應用。

4.車規(guī)級芯片。推進數(shù)字座艙芯片、駕駛輔助芯片、功率器件、汽車傳感器等車規(guī)級芯片研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化項目;面向新能源汽車,布局動力系統(tǒng)、主被動安全系統(tǒng)、娛樂信息系統(tǒng)、車內(nèi)網(wǎng)絡、照明系統(tǒng)車規(guī)級芯片產(chǎn)業(yè)化項目。

(四)圍繞前沿領域建鏈

1.第三代半導體器件。圍繞電力電子器件、射頻器件、光電器件等 3 個應用方向,引入碳化硅(SiC)功率晶體管、氮化鎵(GaN)充電模塊、GaN 功率放大器、高光效 LED、MiniLED 等器件項目;支持中高壓 SiC 功率模塊、GaN 5G 射頻開關、紫外 LED 的研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化,突破 SiC 絕緣柵雙極型晶體管(IGBT)、毫米波射頻器件、MicroLED 關鍵技術。

2.量子芯片。支持單光子源、激光器、探測器等光量子芯片的研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化;布局量子傳感器、量子精密測量器件等生產(chǎn)項目;開展量子通信、量子成像、量子導航、量子雷達、量子計算芯片共性前沿技術攻關。

產(chǎn)業(yè)布局

(一)打造相對完整的集成電路產(chǎn)業(yè)鏈聚集區(qū)。重點發(fā)展三維集成工藝、先進邏輯工藝,加快推進先進存儲器等重點制造項目建設;重點發(fā)展中高端芯片設計、IP 核設計、EDA 軟件等產(chǎn)業(yè),加快推進精簡指令集(RISC—V)產(chǎn)學研基地建設;培育裝備、材料、零部件、封測等產(chǎn)業(yè),加快推進硅基 SOI 半導體材料、光刻材料及電子溶劑、筑芯產(chǎn)業(yè)園等配套項目建設。

(二)構建差異化半導體顯示產(chǎn)業(yè)核心區(qū)。重點發(fā)展中小尺寸顯示面板、大尺寸顯示面板等產(chǎn)業(yè),加快半導體顯示產(chǎn)業(yè)鏈向上下游延伸發(fā)展,培育核心設備、關鍵材料、模組、元器件、顯示終端等產(chǎn)業(yè),推進華星 t4、華星 t5、天馬 G6 二期、京東方 10.5 代線擴產(chǎn)、創(chuàng)維 MiniLED 顯示產(chǎn)業(yè)園等項目建設。

(三)創(chuàng)建半導體特色產(chǎn)業(yè)區(qū)。重點發(fā)展光電芯片、第三代化合物半導體等產(chǎn)業(yè),推進紅外傳感芯片制造、微機電(MEMS)與傳感工業(yè)技術研究院等項目建設;培育車規(guī)級芯片、工控芯片等產(chǎn)業(yè),推進國家新能源和智能網(wǎng)聯(lián)汽車基地建設;培育顯示芯片、信息安全芯片等產(chǎn)業(yè),推進國家網(wǎng)絡安全人才與創(chuàng)新基地建設;培育人工智能芯片、通用邏輯芯片等產(chǎn)業(yè),推進國家新一代人工智能創(chuàng)新發(fā)展試驗區(qū)建設。